软著和专利冲突吗？软著即软件著作权，专利是发明创造独占权，二者一般不冲突，保护客体、审查程序、保护期限都不同。但软件含可申请专利的技术创新点时，可同时申请，从不同角度保护成果，增强保护力度。接下来民生与法网小编将为您介绍相关内容。
一、软著和专利冲突吗
软著即软件著作权，专利是发明创造的独占权利。软著和专利一般不冲突：
1. 保护客体不同。软著保护软件的表达，如代码、文档等；专利保护技术方案，强调新颖性、创造性和实用性。
2. 审查程序不同。软著登记相对简单快速，形式审查为主；专利需经过严格的实质审查。
3. 保护期限不同。软著一般为50年；专利发明20年，实用新型和外观设计10年。
但在某些情况下可能产生关联。比如软件中包含可申请专利的技术创新点，此时可以同时申请软著和专利，从不同角度保护软件成果，发挥两者优势，增强保护力度。
二、专利保研加多少分
专利保研加分情况因学校和专业而异。
一般来说，发明专利的加分相对较多，可能在5至15分左右，有的学校会给予较高权重。实用新型专利加分通常在2至8分。外观设计专利加分可能在1至5分。
例如，某高校规定，在专业综合成绩排名相近时，拥有发明专利可加10分优先获得保研资格；实用新型专利加5分；外观设计专利加3分。
但不同学校在具体政策执行上有差异，有的学校对专利的质量、发明人顺序等也有不同考量。有的学校更看重发明专利，对实用新型和外观设计专利的加分相对谨慎。
要确切了解专利保研的加分情况，需查看目标学校当年的保研政策文件，或向学校招生办、学院咨询。
三、什么是软著和专利
软著即软件著作权，是指软件开发者或者其他权利人依据有关著作权法律的规定，对于软件作品所享有的各项专有权利。它保护的是软件的代码、文档等表达形式。
专利则是发明创造人或其权利受让人对特定的发明创造在一定期限内依法享有的独占实施权。包括发明专利、实用新型专利和外观设计专利。发明专利针对产品、方法或其改进提出的新技术方案；实用新型专利针对产品形状、构造等结合提出的实用新技术方案；外观设计专利针对产品的整体或局部的形状、图案等富有美感且适用于工业应用的新设计。
软著和专利保护客体不同，保护力度和期限也有差异。企业可根据自身情况，合理选择通过软著或专利来保护自身创新成果。
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